爍科精微12英寸CMP設備2020年啟動坐朋驗證
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- 發布時間:2020-08-13 11:20
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【概要描述】攻克集成電(diàn)路制造領域關鍵設備核心技術 11月22日,記者時哥在北(běi)京爍科精微電(diàn)子裝備有限公司(以下(xià)文醫簡稱“爍科精微”)一(yī)樓淨化廠房看到,工(gōng)作人員(yuán)正腦拿在對一(yī)台CMP(化學機械平坦化)設備進行整機組裝。爍科精歌風微總經理李婷介紹說,公司研發的CMP設備滿們你足IC制造中(zhōng)所有複雜(zá)平坦化工(g煙明ōng)藝需求,涵蓋8英寸(200mm)和12英寸(300mm)樂用産線,公司批量生(shēng)産的HJP-200型CMP設備已通過SE刀快MIS2和SEMIF47認證,并通過中(飛行zhōng)芯國際和華虹宏力的大(dà)産樂物線産業化驗證,進入合格供應商(shāng)名笑友單,形成批量采購,而12英寸(300mm)CMP設備也将于2020年進高多入工(gōng)藝驗證階段。 CMP設備,也叫化學機械抛光水到設備,是集成電(diàn)路制造領域的關鍵設備之一(yī)。它的原員南理是利用抛光液化學刻蝕和抛光墊機械摩擦的人下綜合平衡作用,對晶圓表面材料進行精細去(qù)除。在集成電(di著術àn)路制造中(zhōng),CMP首先被用于芯片制造前道工(gōng)藝黃村的平坦化、器件隔離(lí)、器件構造,其次在芯片制造路吃後道工(gōng)藝的金屬互連也需使用。同時,CMP在集成電(diàn)路3D暗你封裝TSV工(gōng)藝中(zhōng)也是機頻關鍵的工(gōng)藝手段。正是因為具有相對多樣且關鍵的應用,CMP已經成為集地道成電(diàn)路制造中(zhōng)的标準工(g腦藍ōng)藝和核心裝備。 “我(wǒ)(wǒ)們的設備各項指标符合微湖産線生(shēng)産的要求,滿足0.09-0.35um工(gō短多ng)藝節點集成電(diàn)路生(shēng)産需要,打破了之從拿前CMP設備隻能依靠進口的局面,為集成電(diàn)路産業CMP還南設備自主可控提供了保障。”李婷說,随着大(dà)規模集如光成電(diàn)路産品性能指标的提升,集成電(diàn)路生(shēng物道)産企業需要不斷研發更先進的工(gōng)藝,其中(飛靜zhōng)先進CMP工(gōng)藝是關鍵環飛風節,爍科精微CMP設備配備了高精度研磨壓力控制系統,增是靜加了抛光墊在線複雜(zá)曲線修整模式,更新了化學液的控制和線方式,提升了控制精度,對經常需要維護的部件進行了結構改進,縮短和船了單次維護時間,提升了産品性能。 據介紹,爍科精微已經建立國内車歌首個集成8英寸和12英寸的CMP整體(tǐ)方案開(kāi)發平下東台,支持CMP相關工(gōng)藝材料驗證紅開、工(gōng)藝研發及設備優化,構建起“産品+工(gō事務ng)藝+材料+服務”的系統解決方案,建立CMP高端技術生(shēng)态鍊系服聽統。8英寸(200mm)CMP設備在推向市場的短短兩年中(zhōn音姐g),已經得到行業和市場的逐步認可,完成進口替代。 兩個月之前在經開(kāi草見)區注冊成立的爍科精微,是中(zhōng)電(diàn)科電(diàn)子裝備門朋集團有限公司為實現科技成果轉化設立的混合所有制公司,也是電(diàn)科裝備玩那第一(yī)個由職業經理人擔任總經理的新設公司要謝,公司的機制體(tǐ)制、考核體(tǐ)系、管理模中子式等更加适應現代企業制度。在業務上,爍科精微堅持聚焦CMP這一光農(yī)集成電(diàn)路高端裝備核心主業,推動集成電(diàn)路關鍵裝備現作研發與産業化進程,計劃在2020年二季度習遠完成12英寸(300mm)CMP設備的實河年驗室工(gōng)藝驗證及數據收集,随後将設備推向産線進行驗證上綠,在産品驗證通過之後,進行量産。 對于下(xià)一個科(yī)步發展,李婷說,爍科精微将依托亦莊在集成電(diàn)藍個路制造産業領域的集群效應,建立集CMP設備、耗材、見區附屬設備以及工(gōng)藝demo于一(yī)體(黃廠tǐ)的國産CMP成套工(gōng)藝平台,提供一(y刀離ī)站式CMP技術解決方案,實現CMP成套技術的國産化。要說此外(wài),在集成電(diàn)路平坦化技術區制領域開(kāi)拓探索,對前沿的Finfet技術,Ru/Co等特殊材料的會大平坦化工(gōng)藝進行深入探索,不斷推動下(xià)一(yī兵河)代平坦化技術發展。 http://kfqgw.beijin城個g.gov.cn/zwgk/xwzx/yzxw/201911/t2019112是的6_548741.html
爍科精微12英寸CMP設備2020年啟動驗證
【概要描述】攻克集成電(diàn)路制造領域關鍵設備核心技術 11務跳月22日,記者在北(běi)京爍科精微電(制舊diàn)子裝備有限公司(以下(xià)簡稱“爍科精微”)一這件(yī)樓淨化廠房看到,工(gōng)作人員(yuá秒理n)正在對一(yī)台CMP(化學機械平坦化)設備進行整機組裝也視。爍科精微總經理李婷介紹說,公司研發的CMP設備滿足IC制造中(zhōng)所民嗎有複雜(zá)平坦化工(gōng)藝需求,畫村涵蓋8英寸(200mm)和12英寸(300mm)産線,公司批量生知計(shēng)産的HJP-200型CMP設備已通過SEMIS2和SE舊事MIF47認證,并通過中(zhōng)芯國際和華虹宏力站去的大(dà)産線産業化驗證,進入合格供應商線低(shāng)名單,形成批量采購,而12英寸(300mm地白)CMP設備也将于2020年進入工(gōng車個)藝驗證階段。 CMP設備,也叫化學機械商了抛光設備,是集成電(diàn)路制造領域的關鍵設備之人章一(yī)。它的原理是利用抛光液化學刻蝕和抛光墊機械摩校讀擦的綜合平衡作用,對晶圓表面材料進行精細去(qù)除。在集成電(diàn)路制錯器造中(zhōng),CMP首先被用于芯片制造前道工土東(gōng)藝的平坦化、器件隔離(lí)、器件構造,其次在芯片制造後道工分謝(gōng)藝的金屬互連也需使用。同時,CMP在集成電(diàn時如)路3D封裝TSV工(gōng)藝中(zhōng)雪白也是關鍵的工(gōng)藝手段。正是因為具有相對文討多樣且關鍵的應用,CMP已經成為集成電(diàn)路制造中(zhō雪為ng)的标準工(gōng)藝和核心裝備。 “我(wǒ多麗)(wǒ)們的設備各項指标符合産線生(shēng)産的要求,滿足0.0資說9-0.35um工(gōng)藝節點集成電(diàn水舊)路生(shēng)産需要,打破了之前CMP設備隻能依靠進口的局市頻面,為集成電(diàn)路産業CMP設備自主可控提供了保障。事煙”李婷說,随着大(dà)規模集成電(diàn)路産品性能指标的提升,集成電(d購吃iàn)路生(shēng)産企業需要不斷可在研發更先進的工(gōng)藝,其中(zhōng)先進CMP工(gōng門冷)藝是關鍵環節,爍科精微CMP設備配備了高精度研磨壓力工西控制系統,增加了抛光墊在線複雜(zá)曲線修整模式,更新了化學液這煙的控制方式,提升了控制精度,對經常需要維護的部件進行了結構改進,縮短了間中單次維護時間,提升了産品性能。 據介紹,爍科精微已經建立國内劇月首個集成8英寸和12英寸的CMP整體(tǐ)方案開(kāi)發平台,支持C綠問MP相關工(gōng)藝材料驗證、工(gōng)藝研發及設備呢腦優化,構建起“産品+工(gōng)藝+材料+服務”的系統解決暗做方案,建立CMP高端技術生(shēng)态鍊系統。8英寸(200mm)CMP設關分備在推向市場的短短兩年中(zhōng),已經得到行業和市場的逐步認可,完為腦成進口替代。 兩個月之前在經開(kāi)區注冊成立的家林爍科精微,是中(zhōng)電(diàn)科電理他(diàn)子裝備集團有限公司為實現科技成果轉化設立的混合所有制公司,也是電(生我diàn)科裝備第一(yī)個由職業經理人很玩擔任總經理的新設公司,公司的機制體(tǐ)制、考核體(tǐ都機)系、管理模式等更加适應現代企業制度。在業務上,爍科精微船紅堅持聚焦CMP這一(yī)集成電(diàn用西)路高端裝備核心主業,推動集成電(diàn)路關鍵裝備研發與産業化呢醫進程,計劃在2020年二季度完成12英寸(300mm)CMP設我美備的實驗室工(gōng)藝驗證及數據收集,随後将設備推向産線進去作行驗證,在産品驗證通過之後,進行量産。 對于下(xià工高)一(yī)步發展,李婷說,爍科精微将依托亦莊在集成電(diàn)森愛路制造産業領域的集群效應,建立集CMP設備、耗材、附屬設備森這以及工(gōng)藝demo于一(yī)體(tǐ)的國産CMP成套工(得行gōng)藝平台,提供一(yī)站式CM拍海P技術解決方案,實現CMP成套技術的國産化。此外長也(wài),在集成電(diàn)路平坦化技術領域開(林短kāi)拓探索,對前沿的Finfet技術,海要Ru/Co等特殊材料的平坦化工(gōng)藝進行深計小入探索,不斷推動下(xià)一(yī)代平坦化技術發展。了睡 http://kfqgw.beijing.gov.cn/zwgk/日場xwzx/yzxw/201911/t201911間唱26_548741.html
- 分(fēn)類:公司新聞
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- 來源:
- 發布時間:2020-08-13 11:20
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攻克集成電(diàn)路制造領域關鍵技鐘設備核心技術
11月22日,記者在北(běi)京爍科精微電(d新少iàn)子裝備有限公司(以下(xià)簡稱“爍科精店行微”)一(yī)樓淨化廠房看到,工(gōng)作人員鐘金(yuán)正在對一(yī)台CMP(化學機械平坦化)設花高備進行整機組裝。爍科精微總經理李婷介紹說,費河公司研發的CMP設備滿足IC制造中(zhōng)所有複雜(zá)平坦化工(gō呢習ng)藝需求,涵蓋8英寸(200mm)和12英寸(300mm)産線,公公風司批量生(shēng)産的HJP-200型CMP設備已通過SEMI 文會S2和SEMI F47認證,并通過中(zhōng)芯國際和華虹宏開他力的大(dà)産線産業化驗證,進入合格供應商(shāng女村)名單,形成批量采購,而12英寸(300mm)C做行MP設備也将于2020年進入工(gōng相業)藝驗證階段。
CMP設備,也叫化學機械抛光設備,是集月照成電(diàn)路制造領域的關鍵設備之一(yī)。它村房的原理是利用抛光液化學刻蝕和抛光墊機械摩擦的綜合平衡作黑到用,對晶圓表面材料進行精細去(qù)除。在集成電(diàn)路制造中(zh湖船ōng),CMP首先被用于芯片制造前道工(gōng)海多藝的平坦化、器件隔離(lí)、器件構造,其次在芯片制造後道工(gōng)藝的問離金屬互連也需使用。同時,CMP在集成電(diàn)路3D封裝TS從計V工(gōng)藝中(zhōng)也是關鍵的工(gōng)藝手段舞電。正是因為具有相對多樣且關鍵的應用,CMP已經成為集成電(diàn)路制造中裡很(zhōng)的标準工(gōng)藝和核心裝備。化開
“我(wǒ)(wǒ)們的設備各項指空老标符合産線生(shēng)産的要求,滿足0.09-0.35um水一工(gōng)藝節點集成電(diàn)路生(shēng)産需要,打破頻地了之前CMP設備隻能依靠進口的局面,為集成電(diàn)路産業CMP設備自主店兵可控提供了保障。”李婷說,随着大(dà)規模集成電(diàn)路産品海了性能指标的提升,集成電(diàn)路生(shēng)産企業厭學需要不斷研發更先進的工(gōng)藝,其中(zhōng遠村)先進CMP工(gōng)藝是關鍵環節,爍科精微CMP設備亮下配備了高精度研磨壓力控制系統,增加了抛光墊在線複雜(zá)曲線修整模秒都式,更新了化學液的控制方式,提升了控制精度,對去是經常需要維護的部件進行了結構改進,縮短了單信子次維護時間,提升了産品性能。
據介紹,爍科精微已經建立國内首個集成8英寸和12英寸的CMP整體(t友樹ǐ)方案開(kāi)發平台,支持CMP相關工(gōng)藝材料驗證、區火工(gōng)藝研發及設備優化,構建起“産品+工費火(gōng)藝+材料+服務”的系統解決方案,建立CMP高端技術生(s這湖hēng)态鍊系統。8英寸(200mm)CMP設備在推向市場的短短兩年中(南通zhōng),已經得到行業和市場的逐步認可,完成進口替代去亮。
兩個月之前在經開(kāi)區注冊成立的爍科精微,是中(zh畫路ōng)電(diàn)科電(diàn)子什得裝備集團有限公司為實現科技成果轉化設立的混合所有制公司,也是電(diàn鐵民)科裝備第一(yī)個由職業經理人擔任總嗎兒經理的新設公司,公司的機制體(tǐ)制、考核體(tǐ)系、管理模式唱你等更加适應現代企業制度。在業務上,爍科精微堅持聚焦CMP這一(yī)集成電內要(diàn)路高端裝備核心主業,推動集成電(diàn)路關喝家鍵裝備研發與産業化進程,計劃在2020年二季度完成12英寸(300mm)C有公MP設備的實驗室工(gōng)藝驗證及數據收集,随後将設備推向産線進行驗訊爸證,在産品驗證通過之後,進行量産。
對于下(xià)一(yī)步發展,李婷說,爍科精錯白微将依托亦莊在集成電(diàn)路制造産業領域的集群效應,建立集CMP設備、慢數耗材、附屬設備以及工(gōng)藝demo于一(yī)亮算體(tǐ)的國産CMP成套工(gōng)藝不放平台,提供一(yī)站式CMP技術解決方案,實現CMP成套技術的日黃國産化。此外(wài),在集成電(diàn)路平坦化技術領域開(kāi厭刀)拓探索,對前沿的Finfet技術,Ru/Co等特殊材購器料的平坦化工(gōng)藝進行深入探索,不斷推動下(xià)一風聽(yī)代平坦化技術發展。
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