攻克集成電(diàn)路制造領域關鍵設備核心技術　　11月22日，記者電兒在北(běi)京爍科精微電(diàn)子裝備有限公司（以動機下(xià)簡稱“爍科精微”）一(yī)樓淨化廠房看到，工(gōng)作人員(短那yuán)正在對一(yī)台CMP（化學機械匠短平坦化）設備進行整機組裝。爍科精微總經理李婷介紹說，公司研發的CMP設備滿員音足IC制造中(zhōng)所有複雜(zá)平坦化工(gōng)藝需求，涵蓋8英嗎村寸（200mm）和12英寸（300mm）産線，公司批量生(s舞短hēng)産的HJP-200型CMP設備已通過SEMIS2和SEMIF47民美認證，并通過中(zhōng)芯國際和華虹宏力的個人大(dà)産線産業化驗證，進入合格供應商(s書腦hāng)名單，形成批量采購，而12英寸（300mm）CMP森一設備也将于2020年進入工(gōng)藝驗市器證階段。　　CMP設備，也叫化學機械抛光設備，是集成的離電(diàn)路制造領域的關鍵設備之一(yī)。它的原理是姐少利用抛光液化學刻蝕和抛光墊機械摩擦的綜合平衡作用會飛，對晶圓表面材料進行精細去(qù)除。在集成電(diàn)路制造見土中(zhōng)，CMP首先被用于芯片制造前道工(gōng)藝的平坦化、器件術道隔離(lí)、器件構造，其次在芯片制造後道工(gōng)藝的金屬互外雜連也需使用。同時，CMP在集成電(diàn從市)路3D封裝TSV工(gōng)藝中(zhōng)我章也是關鍵的工(gōng)藝手段。正是因為具有相對多店那樣且關鍵的應用，CMP已經成為集成電(d就為iàn)路制造中(zhōng)的标準工(gōng)藝和核心裝備。　　放河“我(wǒ)(wǒ)們的設備各項指标符合産線生(shēng)産的要街匠求，滿足0.09-0.35um工(gōng)藝節點集長了成電(diàn)路生(shēng)産需要，打破了之前CMP看飛設備隻能依靠進口的局面，為集成電(diàn)路産業CMP設備自主可控裡用提供了保障。”李婷說，随着大(dà)規模集成西坐電(diàn)路産品性能指标的提升，集成電(diàn)路生(s懂議hēng)産企業需要不斷研發更先進的工(g北器ōng)藝，其中(zhōng)先進CMP工鐘就(gōng)藝是關鍵環節，爍科精微CMP設備配備了高精度研磨新哥壓力控制系統，增加了抛光墊在線複雜(zá)曲線修整模式，更新了化學液的控制下長方式，提升了控制精度，對經常需要維護的部件進行了結構改進，縮短村動了單次維護時間，提升了産品性能。　　據介紹，爍科精微已經建立線技國内首個集成8英寸和12英寸的CMP整體(tǐ)算鄉方案開(kāi)發平台，支持CMP相關工(gōng)藝材料看她驗證、工(gōng)藝研發及設備優化，構建起“産品+工(gō離間ng)藝+材料+服務”的系統解決方案，建立CMP高端技術生(shēng)态鍊系一就統。8英寸（200mm）CMP設備在推向市場的短短兩年中(去工zhōng)，已經得到行業和市場的逐步認可，近讀完成進口替代。　　兩個月之前在經開(kāi)區注冊可劇成立的爍科精微，是中(zhōng)電(d兒得iàn)科電(diàn)子裝備集團有限公司為實現科技成果轉化設立的混合理森所有制公司，也是電(diàn)科裝備第一(yī)個由職業經理人擔任總雪姐經理的新設公司，公司的機制體(tǐ)制、考核體(t老子ǐ)系、管理模式等更加适應現代企業制度。在業務上，爍市媽科精微堅持聚焦CMP這一(yī)集成電(diàn)路高端裝備核心主業，推動集麗事成電(diàn)路關鍵裝備研發與産業化進程，美拍計劃在2020年二季度完成12英寸（300mm）CMP設備的實驗室工(gōng林志)藝驗證及數據收集，随後将設備推向産線進行驗證森服，在産品驗證通過之後，進行量産。　　對于下(xià區土)一(yī)步發展，李婷說，爍科精微将依我藍托亦莊在集成電(diàn)路制造産業領域的相腦集群效應，建立集CMP設備、耗材、附屬設備以及工(g會著ōng)藝demo于一(yī)體(tǐ)的國産CMP成套工(gōng)藝平台高熱，提供一(yī)站式CMP技術解決方案，火媽實現CMP成套技術的國産化。此外(wài)，在集成電(diàn)雪這路平坦化技術領域開(kāi)拓探索，對前沿的Fi線在nfet技術，Ru/Co等特殊材料的平坦化工(gōng)藝雪月進行深入探索，不斷推動下(xià)一(yī)代章土平坦化技術發展。　　http://kfqgw.beijing.gov.c靜學n/zwgk/xwzx/yzxw/201911/t201911你喝26_548741.html